CVD气相沉积炉的介绍：

CVD气相沉积炉是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。

气相沉积炉用途：

气相沉积炉在抽真空后氢气保护的情况下，利用中频感应加热原理，使位于盘管内的钨坩埚达到高温，通过热辐射传导到工作中，适用于科研、军工部门对钨、钼及其合金粉末进行成型烧结。安装气相沉积炉的场地应符合真空卫生要求，周围空气清洁干燥，通风条件好，工作场所不易扬起灰尘等。

CVD气相沉积的功能特点：

1、采用纯微波加热、传统电加热或混合加热方式，可加热包括金属在内的非易燃易爆材料；

2、升温速率快，智能控温，可分段设置，控温稳定度好，热惯性小。同时加热多个温区，且加热区长度可调；

3、可通各种气氛，抽真空有机械泵、扩散泵和分子泵，可达真空状态；

4、炉体采用不锈钢密封法兰（铰链结构）；

5、保护管采用合金管，气管采用卡套或VCR接口，安装方便；

6、炉体配有自动冷却风扇，降低温度；

7、真空系统：机械泵扩散泵和分子泵，真空密度计；

8、可通过电脑全程监控和调试。

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